隨著制程往下走，關鍵尺寸的線寬已經小于波長的一半，光學衍射效應變得明顯起來。以fab中最常用的arf而言，其激光波長是193nm，那么除以二，也就是說90nm就是極限了，后來即使出來了，可以做到65，但沒有光學修正的話，pattern將變得如蛇般扭曲，不成樣子，甚至忽隱忽現。由此，opc變得越來越重要，即使后面引入的多重曝光，也沒有降低opc的重要性。
趙敏雖然也是新人，在這個領域卻足夠做孔明的師傅。
“看在你謙虛好學，一片至誠，貧尼就賜教賜教吧。”趙敏說著不倫不類的話，神色鄭重。
“opc是做什么的？僅僅是嗎？No，作為一名有理想的opc er，我們的目標是提高litho的process window，為pie排憂解難。”
這一記馬屁讓孔明有點嘚瑟，不過旋即明白趙敏是在調侃pie，當下也不以為忤，繼續微笑傾聽。
“opc主要分兩步，一是建model，模擬litho的現實曝光條件，其實也是為litho提供recipe setting，二者是相輔相成的。二是修recipe，利用model，在drawn layer上做opc，包括etch bias補償，sraf補償，model base補償，都是基于fragment來做的，這一部分比較精細。當然，建model的時候也很精細，需要收集盡可能多的pattern數據，利用這些數據，建model，目的嘛，當然也是為了盡量cover多的pattern。”
孔明想著做handbook時有的layer要提供多個位置，dense，iso等，當下恍然，有了更深的了解。這就是uniformity的要求吧，design可以有粗有細，但必須都on target，不僅僅是litho要做到一致，cmp在大塊區域與稀疏區域也要做到均勻，找書苑 www.zhａoshｕyuan.coｍ所以對各家module，其實主要是設備及軟件供應商，提高了要求。
“你們是基于litho的CD去修的，是吧？”孔明問。
“當然了，design house給的是draw layer，而litho曝光出來的是litho CD，而etch家刻蝕出來的是etch CD，我們當然要補償回來etch造成的loss啊，并且dense iso補償的數值也不一樣，這些都需要大量的數據驗證。”趙敏詳細解釋。
孔明點頭：“敏敏，在opc這方面，你足以勝任我的女朋友了，怎么樣，接下這份榮耀的角色吧。”
趙敏抿嘴：“學的挺快嘛，不過，我為什么要答應你呢？”
孔明笑瞇瞇說：“因為我好學，你好教，教學相長嘛。”
趙敏笑了：“有那么點意思，那就先這樣吧。”
孔明喜不自勝，他知道，自己現在只缺一個契機，就可以全壘打了。
趙敏回到座位上，很快又回來，懷里抱了幾本厚墩墩的大部頭，說：“既然是教學，那自然是要考核的，這幾本是光學大牛的作品，你全部看一遍，寫個畢業論文吧。”
孔明的瞳孔一下子收縮了，這幾本可都是傳說級難度，猶在施敏的工藝器件之上，而且以理論推導為主，這可真是要命的，一本光子學就能讓孔明掉半管血。
“我想，夠你禁欲兩個月了。”趙敏宛然一笑，露出小半牙齒。
孔明咬牙：“我跟它們拼了。”
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